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意力博通溅射仪ETD-2000

发布时间:2018-04-24 08:58

意力博通溅射仪ETD-2000简介:
                        

意力博通溅射仪ETD-2000是现阶段配套扫描电镜SEM,透射电镜TEM和电子探针最佳的配套前级样品处理系统以及均匀高质量的电极薄膜制备,
意力博通溅射仪ETD-2000是用于电镜样品前处理,制作电极的最先进高质量的镀膜仪系统,配置有样品溅射室真空表和溅射电流表,用以指示、监控仪器状态,溅射电流调整控制器、微型真空气阀。在工作时结合内部自动控制电路很容易控制真空室压强、电离电流及任意选择所需要的电离气体,获得最佳镀膜效果。
意力博通溅射仪ETD-2000可根据电场中气体电离特性,采用大容量样品溅射真空室和相应面积溅射靶,使溅射镀层更均匀纯净。
 
主要优势功能:
 
自动的换气与泄气功能,意力博通溅射仪ETD-2000可以得到一致的膜厚,和最佳的导电喷镀效果。
 
通过高效低压直流磁控头进行冷态精细的喷镀过程,避免样品表面受损。
 
操作容易快捷,可全自动或手动进行喷镀操作,意力博通溅射仪ETD-2000控制的参数包括自动放气以及氩气换气控制。
 
在自动模式下,可通过两种方式进行控制镀膜过程。意力博通溅射仪ETD-2000可通过数字显示器控制得到可重现的喷镀效果。
 
可配备MTM-10高分辨膜厚仪(选件)(分辨率优于0.1nm,-99.9nm到+999.9nm)
 
数字的喷镀电流控制不受样品室内氩气压力影响,意力博通溅射仪ETD-2000可得到一致的镀膜速率和最佳的镀膜效果。
 
可使用多种靶材:Au, Au/Pd,,Pt,,Pt/Pd,靶材更换快速方便。
 
技术规格:
 
样品仓尺寸: 120 x 120mm(高) (4.75 x 4.75"),高强度不锈钢结构
 
样品台:意力博通溅射仪ETD-2000可放置12个准SEM样品座,高度可在 60mm内调节
 
溅镀优点:基于微处理器反馈控制,远程电流/电压感应;提供真空安全联锁装置,最大180A,配有过流保护
 
溅射控制:意力博通溅射仪ETD-2000微处理器控制,安全互锁,可调,意力博通溅射仪ETD-2000最大电流40mA,程序数字控制
 
溅射头:低电压平面磁控管,靶材更换快速,环绕暗区护罩
 
模拟计量:真空 Atm - 0.01mb  电流: 0 - 200A
 
厚度监测器: MTM-10高精度厚度监测器(选配)
 
控制方式:自动气体换气和泄气功能,自动处理排序,意力博通溅射仪ETD-2000带有“暂停”控制的数字定时器(0-300s),自动放气
 
电源:200-240 VAC, 50/60Hz
 
功率:1000VA (包括镀碳机和真空系统)
 
氩气: 纯度优于99.9%,压力调节0.5-0.6 bar, 6mm连接软管

特点:
 
在 ETD-2000/3000 离子溅射仪基础上,增加了热蒸发附件,可以蒸发碳丝,具有溅射和蒸发两种功能。因此扩展了应用范围,特别适用于扫描电镜实验室样品制备。

ETD-2000C 溅射蒸碳仪是依据二极(DC)直流溅射原理设计而成的,最简单、可靠、经济的镀膜设备。同时增加了热蒸发附件,具有溅射和蒸发两种功能。 
 
满足电镜实验室的扫描电子显微镜(SEM)样品制备和非导体材料实验电极制作。

                                                                      

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